隨著我國工業技術的高速發展,其中半導體行業需求也迅速加大,但隨之而來也帶有VOC廢氣對大氣污染。因為國家近年來對環境治理加大力度,半導體也成分重點治理對象之一。半導體行業對生產車間清潔度要求極高,因此廢氣排放風量較大、排放濃度小的。今天錦華環保小編簡單介紹半導體行業廢氣處理解決方案。
主要來源于芯片或者是線路板出產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中以及對電路板進行清洗。主要成分有機廢氣和酸堿廢氣兩類。有機類有:非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等;酸堿類有:氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。
半導體行業廢氣處理解決方案:
(1)預處理階段:一般采用噴淋塔先對廢進行預處理,去除粉塵以及易溶于水的有害氣體。
(2)主要處理階段:在此階段,比較常見而有效方法有: UV光解,生物過濾分解,焚燒和催化燃燒等。
這幾種方式各有優劣,根據大多數電子廠廢氣的情況,在這里我們主要推薦和介紹活性炭吸附+催化燃燒設備去除VOCs氣體的方案。
1、活性炭吸附
活性炭吸附設備是處理有機廢氣和惡臭氣體有效的廢氣處理設備。該活性炭能有效去除水中的異味、天然和合成溶解性有機物、微污染物等措施。大部分較大的有機分子、芳香族化合物、鹵代炔等都能牢固吸附在活性炭的表面或孔隙中,對腐殖質、合成有機物和低分子量有機物有明顯的去除作用。活性炭吸附作為一種深度凈化工藝,也可用于長期生產和生活污水經終處理后的凈化。
有機廢氣氣體由風機提供動力,正壓或負壓進入活性炭吸附器塔體,由于活性炭固體表面上存在著未平衡和未飽和的分子引力或化學健力,因此當此固體表面與氣體接觸時,就能吸引氣體分子,使其濃聚并保持在固體表面,污染物質從而被吸附,活性炭吸附到一定時間后,即可進入脫附流程,脫附后的氣體即是濃縮后的vocs氣體
2、催化燃燒設備
本凈化裝置是根據催化燃燒的基本原理設計的,催化凈化裝置內設加熱室、換熱室,啟動加熱裝置,進入內部循環,當熱氣源達到有機物的沸點時,有機物進入催化室進行催化分解成CO2和H2O,同時釋放出能量。利用釋放出的能量進入吸附床脫附時,此時加熱裝置完全停止工作,有機廢氣在催化燃燒室內維持自燃,尾氣再生,循環進行。余熱經過換熱器進行回收,便于下次加熱進氣及余熱回收,能量回收效率高,能耗小,有機物得到催化分解處理。